通常通过服装，mau，ffu及入口的风淋室等控制手段，可有效控制颗粒物的产生
1、amc控制
通常amc系统包括，amc过滤系统及amc气体品质监控系统两部分组成，分别起到过滤和确认效果的作用
2、照度测试
实时空气品质监测系统对半导体业界而言，并不陌生。现行模式大都以定点式监测器为主流，分布的范围以正压供气端如气瓶柜、气体分流配置箱，以及特殊毒性气体机台通风橱柜等。
除此之外，厂内空气流向同样是监测器布点与泄漏搜寻时，相当重要的参考依据。比方说，外气入口在空调层的洁净室，其空气流向通常如下图所示，subfab区域受洁净室作业影响最大，空调层受外气影响较大。因此，在进气口位置与subfab区域架设气体监测器，可有效厘清洁净室内空气污染与外气之间的关连性。再者，对于fab与subfab间有回风区夹层的工厂，直接在制程区下方架设之气体监测器，可立即反应制程区作业所造成的污染。而对于无回风区夹层的洁净室，架设在subfab区两侧之气体监测器，可分区监测不同回风流场所代表的空气品质状况。因此，依据工厂的空调流场设计、监测目标，选择适用之监测位置与气体监测工具。
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